High Nivo Materyèl Silisyòm Metal 553

Nan fabrike nan Silisyòm pou selil solè, bor ka retire pi vit pase tout tan nan laSilisyòm metal 553Metòd raffinage nan metal Silisyòm. Nan lòt mo, yon kouran plasma ki gen ladan gaz Agon ak vapè dlo ajoute nan metal la fonn Silisyòm sou fòm piki sou sifas la likid fonn yo retire bor la ki nan metal la Silisyòm, ak yon gaz diminye plis ajoute nan kouran an plasma. Bor ka retire pi efikasman pa byen ajiste rapò a melanje nan vapè dlo/diminye gaz, ang piki gaz ak metòd chofaj.

1.Mo ki baze sou solisyon solid (Moss) sere Mo2Ni akSilisyòm metal 553Materyèl ki reziste yo te prepare pa teknoloji depozisyon lazè k ap fonn, ak pwopriyete yo mete nan alyaj la nan ranje 400 ~ 550 degre yo te evalye sou yon friksyon PIN-disk ak machin tès mete, ak sifas la mete ak mòfoloji soutèr nan alyaj la. yo te obsève avèk èd nan mikwoskòp elektwonik optik. Moss sere Mo2Ni3Si metal silikid alyaj montre yon relasyon nòmal mete to-tanperati anba tanperati ki wo tanperati glisman kondisyon, se sa ki, pousantaj la mete diminye ak ogmantasyon nan tanperati, ak sifas mete li se lis ak plat, san yo pa karakteristik sa yo nan microcutting ak furrowing, ak dendrite Moss yo yon ti kras soksid nan tanperati tès la. Silikid metal Mo2Ni3Si a jwe yon wòl anti-mete nan pwosesis mete, ak dendrite Moss yo ak bon severite ka efektivman anpeche pwopagasyon krak la ak eklatman mikwoskopik matris Mo2Ni3Si la. Mekanis prensipal yo mete nan alyaj la anba kondisyon wo-tanperati glisman yo se mou abrazif mete ak ti oksidasyon nan faz Moss.

Baj popilè: Segondè nivo materyèl Silisyòm metal 553, Lachin segondè nivo materyèl Silisyòm metal 553 Konpayi fabrikasyon, Swèd, faktori