Pwodwi Deskripsyon
Silisyòm se yon materyèl semi -conducteurs enpòtan ak yon enpòtan materyèl endistriyèl anvan tout koreksyon pou devlopman nan teknoloji enfòmasyon. Nano-silica vapè gen gwo aplikasyon pou potansyèl nan jaden yo nan materyèl seramik, materyèl konpoze, materyèl kataliz, photocells ak biomateryal. Esferik metal la nano-Silisyòm poud metalAvèk segondè pite te prepare pa evaporasyon-kondansasyon.
Pwodwi paramèt
| Poud silikon | Gwosè (may) | Konpozisyon chimik % |
| Si fe al ca | ||
| Pi gran pase oswa egal a mwens pase oswa egal a | ||
| Chimik poud silikon |
Si-(20-100 may) Si-(30-120 may) Si-(40-160 may) Si-(100-200 may) Si-(45-325 may) Si-(50-500 may) |
99.6 0.2 0.15 0.05 |
| 99.2 0.4 0.2 0.1 | ||
| 99.0 0.4 0.4 0.2 | ||
| 98.5 0.5 0.5 0.3 | ||
| 98.0 0.6 0.5 0.3 | ||
| Silisyòm poud pou REFRACTORY | -150 may -200 may -325 may -400 may -600 may |
99.6 0.2 0.15 0.05 |
| 99.2 0.4 0.2 0.1 | ||
| 99.0 0.4 0.4 0.2 | ||
| 98.5 0.5 0.3 0.2 | ||
| 98.0 0.6 0.5 0.3 | ||
| Ba-klas | -200 may -325 may |
{{0}} kontni malè mwens pase oswa egal a 3.0% |
Pwodwi Deskripsyon
1.Brown Corundum, White Corundum, SIC, Boksit,Silisyòm poud metal, reyaktif -al _2 o _3 poud, sio _2 poud, esferik asfalt, kyanit, metal aliminyòm poud kòm matyè premyè, silica sol kòm lyan la, echantiyon yo te seche nan 110 degre × 24 h, 815 degre × 3 h ak 1400 degre × 3 h apre antere tretman chalè kabòn, avèk èd nan XRD, SEM ak lòt faz ak analiz mikrostruktur nan echantiyon yo, efè a nan kyanit sou pwopriyete yo nan Al {{10 }} O _3- sic-c castables te etidye. Rezilta yo montre ke apre tretman chalè nan 1400 degre × 3h, ak ogmantasyon nan kontni kyanit, pousantaj la chanjman lineyè nan echantiyon an piti piti chanje soti nan microshrinkage nan mikwo-ekspansyon.
Baj popilè: segondè nivo materyèl Silisyòm poud metal, Lachin wo nivo materyèl Silisyòm metal poud manifaktirè, Swèd, faktori