Pwopriyete chimik ak fizik
Fòmil chimik: Basi₂
Mass molè: ~ 193.5 g/mol
Aparans: gri-nwa cristalline solid
Dansite: ~ 4.3 g/cm³
Pwen k ap fonn: ~ 1,200 degre (varye ak konpozisyon)
Estrikti kristal: orthombic (nan tanperati chanm)
Konduktivite elektrik: Semiconducting pwopriyete (yo itilize nan mens-fim selil solè)
Silisid baryòm se yon ajan diminye ak reyaji ak dlo ak asid yo pwodwi silan (SIH₄), yon gaz ki ka pran dife, ak konpoze baryòm.

Sentèz ak pwodiksyon
Silisid baryòm tipikman sentetiz nan:
Reyaksyon solid-eta: Chofaj yon melanj debaryòm (BA)akSilisyòm (SI)Poud nan tanperati ki wo (800-1,200 degre) anba yon atmosfè inaktif (egzanp, Agon).
Rediksyon metalotèrmik: Sèvi ak oksid baryòm (BAO) ak Silisyòm gaz (SiO₂) ak yon ajan diminye tankou aliminyòm oswa mayezyòm.

Aplikasyon nan Silisyòm baryòm
(1) endistri semi -conducteurs
Selil solè mens-fim: Basi₂ se yon kouch absòbe pwomèt akòz bandgap pi bon li yo (~ 1.3 eV) ak koyefisyan segondè absòpsyon limyè.
Materyèl tèmik: itilizasyon potansyèl nan aparèy konvèsyon enèji.
(2) metaliji
Travay kòm yon deoxidizer ak ajan desulfurize nan pwodiksyon asye.
Itilize nan fòmasyon alyaj pou amelyore rezistans dite ak korozyon.
(3) sentèz chimik
Sous nan Silisyòm nan reyaksyon organometallic.
Itilize pou jenere silan (Sih₄), yon précurseur pou materyèl Silisyòm ki baze sou.
(4) Rechèch ak teknoloji émergentes
Envestige pou aplikasyon pou pwopòsyonèl dot ak aparèy optoelectronic.
Etidye pou depo idwojèn akòz kapasite li nan fòme hydrid.
Baj popilè: Silisid baryòm: yon BECA konplè, Lachin baryòm Silicide: Yon manifaktirè konplè BECA, Swèd, faktori

