Klasifikasyon pa klas pite
(1) Endistriyèl-klas Silisyòm poud (98-99% si)
Konpozisyon: 98-99% si, ak enpurte tankou Fe, Al, CA (<1-2%).
Aplikasyon:
Pwodiksyon aliminyòm & asye alyaj (deoxidizer, ranfòse ajan).
Refractories ak seramik.
Sentèz chimik (silikon, silan).
(2) High-pite Silisyòm poud (99. 5-99. 9% si)
Konpozisyon: 99. 5-99. 9% Si, redwi metal tras (Fe, Al<0.5%).
Aplikasyon:
Solè-klas polysilicon matières pou selil fotovoltaik.
Materyèl anod nan ityòm-ion pil.
Pwodwi chimik espesyalite ak metaliji avanse.
(3) ultra-segondè-pite Silisyòm poud (pi gran pase oswa egal a 99.99% si, 4n -6 n)
Konpozisyon: 99.99% (4N) a 99.9999% (6n) pite, dopan minim.
Aplikasyon:
Semiconductor gato ak mikroelectronics.
Faktori fib optik.
Kwantik informatique ak gwo teknoloji rechèch.
Klasifikasyon pa gwosè patikil
| Lèt | Ranje gwosè patikil | Aplikasyon kle yo |
|---|---|---|
| Poud koryas | 10-100 may (2, 000 - 150 µm) | Alyaj metalurji, refraktori. |
| Mwayen poud | 100-325 may (150–45 µm) | Sentèz chimik, enprime 3D. |
| Amann poud | 325-1, 000 may (45-10 µm) | Anod batri, penti, elektwonik. |
| Ultrafin/nano poud | <10 µm (or <100 nm) | High-pèfòmans konpoze, nanoteknoloji. |
Klasifikasyon pa metòd pwodiksyon
(1) Milled Silisyòm poud
Pwodwi pa mekanik fanm k'ap pile/kraze nan boul metal Silisyòm.
Karakteristik: fòm patikil iregilye, pri-efikas.
Itilizasyon: aplikasyon jeneral endistriyèl (alyaj, pwodwi chimik).
(2) poud Silisyòm atomize
Te fè atravè gaz/dlo atomizasyon, kreye patikil esferik.
Karakteristik: segondè flowability, distribisyon gwosè inifòm.
Itilizasyon: Aditif Faktori (enprime 3D), metaliji poud.
(3) Depo Vapè Chimik (CVD) poud
Powder ultra-wo-pite sentetize via pwosesis CVD oswa plasma.
Karakteristik: nanoparticles, enpurte minim.
Itilizasyon: Semiconductors, elektwonik avanse.
Baj popilè: Kalite Silisyòm poud metal, Lachin kalite Silisyòm metal poud manifaktirè, Swèd, faktori